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更新时间：2020-01-03 
浏览次数：2044箱式真空炉适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。箱式真空炉可供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。
箱式真空炉是一种先进实验设备，适用于金属，纳米，单晶硅，多晶硅，电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，箱式真空炉热处理的加热设备。主要用于材料试验、合成、烧结等。炉体保温性能良好，节能*。
箱式真空炉还可用于、复合材料、粉体材料、结构陶瓷、合金的真空热压烧结。
箱式真空炉工分为以下几个部分，
1.炉膛
箱式真空炉炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑，炉膛内上下用碳化硅棚板，炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导（暗火加热），温度更均匀。箱式真空炉炉壳密封。为提高密封垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部，经加热腔预热后分多处进入炉内，排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀，减小炉内温差。气路上装有气体流量计，用于正常使用控制气氛流量。
2.箱式真空炉冷却 炉门采用循环式水冷。设有进出水接头。
3.电气箱式真空炉电气部分采用与炉体一体化结构，整个电气元件安装在炉体底部的一侧，结构紧凑、占用空间小。箱式真空炉温控安装在炉体侧面板上，观察直观，调节方便，温控仪具有PID调节功能，可自动跟踪设定PID值，可任意设定测量分度密码，同时具备补偿功能，可使炉膛温度与显示值一致，箱式真空炉控温方式：采用德国西门子技术，具有软启动、软关断、可控硅移相调压控制，0~98%输出可调节，面板上各种仪表开关等有相应的中文标牌。
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